陈亚之下午的时候跟卢光南，杨小宝等人一起开会，就未来的光刻机研究方向进行了一些简单的交流。
因为目前国内还没有能够突破58纳米的研究，主要的难点近乎是全面的。
从光刻胶到光学镜头，灯源等等一系列技术难点都极其薄弱。即使是目前已经实现的100纳米的光刻机，也大部分都是国外进口的材料。
卢光南不无遗憾道：“国外对我们的技术封锁是全面的。愿意出口给我们的材料是晚了两代以上的。”
杨小宝道：“辣块妈妈，落后两代的设备也是很贵的。有时候要买的话，还得求着他们。我么现在的58纳米产线，就是江一航那时候带着大家，三番五次去求阿斯麦尔，他们才同意卖设备给我们。”
陈亚之道：“国外的进口设备，咱们还是持续进口。这一块，杨总，你要多费费心。咱们现在缺的不是钱，缺的是人和时间。我们不能让宝岛机电，还有三星在这个市场一家独大，这样，我们今后的半导体行业会完全垮掉的。”
众人都点了点头，深以为然。
陈亚之道：“卢教授，下一代的光刻机研究的方向，我想咱们还是先侧重到浸夜式光刻机。光源这边，我们要专注于极紫外线的光源研究。”
其实，衡量光刻机的性能主要事分辨率，套刻精度和产率。
其中产率就是光刻机在单位时间内能够出产的芯片数量。这个当前并不是最主要的，毕竟一旦光刻机研发成功了，即使产率不高，也可以通过增加光刻机台数的方法来提供产率。
套刻精度则是对芯片上的图形精度的一个直观提现。因为集成电路的制造徐亚经过几十次甚至上百的曝光。这一个过程中，每一次的精度差异都是纳米级别的。这对于镜头和定位的要求特别高。不过以当前的水平，镜头和定位水平都不可能有质的飞跃。
陈亚之知道，这个可以发展，但是需要至少四到五年的时间。
最后则是分辨率，这个是评判光刻机先进成都的最直观的标准。通常我们所说的光刻机的纳米级别就是指的分别率。
其实，所谓的分辨率有点像照片的像素。照片是由很多个小的色块组合而成的，这个色块的尺寸越小，那么照片的像素就会越高。
光刻机的分辨率就是类似色块的最小尺寸，只不过他是以3D的形式，表现在芯片基板上面。
分辨率越小，那么说明光刻机越先进。通常所说的光刻机上突破的尺寸，就是指这个分辨率。
在光刻机中，分辨率又跟一个公式有关，即瑞利公式。分辨率与镜头的数值孔径成反比，与光源的波长成反比。
数值孔径其实类似于我们的视线范围。理论上，这个范围应该是360度才好。不过，因为光刻机要求光刻时的光源参数必须保持一致，因而，这个范围其实是受限的。并不能做得特别大。
光源的波长则很好理解。
陈亚之知道，这个时候极紫外光源还没有能够研发出来，而且也不是短期内可以做到的。因此，可以将极紫外光源纳入研究范畴，当前最要紧的则是研究浸液式光刻机。
所谓浸液式光刻机就是在光源和掩模之间增加一层光学液体，通过光的折射特性来增加数值孔径，以大到分辨率的降低效果。
陈亚之道：“卢教授，不知道你对浸液式光刻机的研究得怎么样？”
卢光南推了推眼镜道：“这个我们之前做过研究，不过因为经费短缺的原因，后来被搁置了。如果我们现在发展浸液式光刻机的话，我想我们可以在一年半到两年的时间内，能够研发出来。”
陈亚之道：“好，那我们就先这么定下来，先全力研发浸液式光刻机，早日实现58纳米的突破。同时，我们也要开始极紫外线的光刻机研究。”
卢光南并没有明显的激动，反而慢条斯理道：“陈总，如果这么做的话，我担心我们的经费...”
这个老人已经被钱给整怕了。他前半辈子一直因为没有得到充足的经费，导致自己倡导的道路没有能够走下去。现在陈亚之提出了，不仅要抓紧研制浸液式光刻机，还同时要进行极紫外线光刻机的研究。
这其实有点左右手互搏的意思。理论上，很多人都认为极紫外线是不可能研发成功的，转而认为光刻机的未来是浸液式光刻机。
陈亚之因为有前世的记忆，知道浸液式光刻机终将被淘汰，未来将会是极紫外线光刻机（EUV）的天下。
不过，为了能够在短期内实现国产光刻机满足汽车行业的需求，他才会这样左右手互搏。既做浸液式光刻机，又研发极紫外线光刻机。
陈亚之道：“卢教授，钱不是问题，我就怕钱解决不了的问题。不过，我想咱们上个世纪连原子弹都能搞出来，这个世纪不可能搞不定一个光刻机。”
卢光南还是忧心忡忡道：“咱们国内的产业实在是太薄弱了，前期如果没有万亿级别的投资，很难会成长起来的。”
陈亚之道：“我们现在不是有了半导体产业园了吗？现在这个园内百分之八十的都是半导体行业相关的公司，没什么可怕的。咱们戮力同心，一定可以成长壮大起来。”
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